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특허증 - 산 분석이 가능한 XRF 분석장치

관리자 2024-11-06 11:43:18 조회수 163
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특허명 : 산 분석이 가능한 XRF 분석장치

 

특허 기술 : 용액 농도를 측정하는 공정용 XRF 금속 분석 장치에 

산 농도 를 분석할 수 있는 전위차 적정 모듈을 추가해

금속 농도와 산 농도를 동시에 측정해 공정 제어 효율을 높이고,

복수 장비 구입을 피하도록 하여, 

경제성을 높이도록 하는데 목적이 있다.

 


 

 

 

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